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日商AIR WATER選用愛思強系統(tǒng)生產GaN-on-SiC-on-Si

德國AIXTRON愛思強 29日宣布,日本安曇野市的愛沃特株式會社(AIR WATER)告稱已成功安裝一套8x6英寸規(guī)格的全自動的愛思強AIX G5 HT行星式反應器,用于氮化鎵外延層的生長。

AIR WATER之所以選用愛思強MOCVD系統(tǒng),是基于該系統(tǒng)能夠實現(xiàn)優(yōu)越的材料均勻性,這是發(fā)揮AIR WATER在氮化鎵外延基材方面的優(yōu)勢的一個關鍵要素。在系統(tǒng)安裝完成后,該公司已宣布今年內推出在硅基材上生長的碳化硅基氮化鎵(GaN-on-SiC-on-Si),充分發(fā)揮該系統(tǒng)的卓越生產效率。為應對日后的市場需求,AIR WATER也正考慮將該系統(tǒng)升級為愛思強AIX G5+系統(tǒng),升級后的系統(tǒng)能夠處理5x200毫米(8英寸)規(guī)格的硅基材。
 
與傳統(tǒng)的硅基材相比,增加的碳化硅層具有能在氮化鎵的初始成核過程保護硅基材的優(yōu)點。碳化硅本身的晶體結構使得其被視為氮化鎵生長的理想模板。因此,硅基碳化硅基材能夠生長出大面積、晶體質量卓越的氮化鎵層。在廣泛的高功率及LED應用中,這一特性能帶來效率的提高和實現(xiàn)成本節(jié)約。

AIR WATER是一家日本領先的工業(yè)氣體制造商,作為半導體氣體業(yè)務的一部分,該公司已針對功率器件和LED應用開發(fā)出在硅基上生長的碳化硅。在此方面,該公司已在8英寸規(guī)格大的硅基材上成功生產出高品質3C-SiC (111),同時也已宣布推出此類產品,以滿足就制造LED及電力電子應用的電子器件所需的氮化鎵外延生長。(責編:Flora)
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