愛思強股份有限公司昨日宣布,其最新的硅基氮化鎵生長設備AIX G5+反應器,榮獲“2013年化合物半導體制造獎”。 該獎項旨在表彰在有關(guān)芯片制造工藝領(lǐng)域從研究到成品器件等關(guān)鍵環(huán)節(jié)中取得的卓越創(chuàng)新成就,推動行業(yè)向前發(fā)展的人士、工藝和產(chǎn)品。
愛思強股份有限公司首席技術(shù)官Andreas Toennis表示: “我們一直走在硅基氮化鎵技術(shù)的前沿,我們非常高興能榮獲此獎項,這是化合物半導體行業(yè)對我們所取得成就的充分認可。AIX G5+反應器旨在實現(xiàn)在硅基材上生長氮化鎵,并提供可媲美藍寶石基材生長工藝的性能和產(chǎn)量。”
“硅基氮化鎵技術(shù)勢將成為未來電力電子應用的技術(shù)選擇,且在低成本高亮度LED制造方面擁有廣闊的應用前景,”愛思強歐洲副總裁Frank Schulte博士補充說。
據(jù)了解,AIX G5+每生產(chǎn)批次可處理五個直徑為200mm的晶圓,通過大面積的基材,有效提高氮化鎵設備的產(chǎn)量和良率。