最近LED產(chǎn)業(yè)除了有大量的MOCVD新機臺成軍外，業(yè)界關(guān)注的另一個焦點是也有LED廠商要打造三五族的太陽能電池，MOCVD的應用有哪些呢？我們來看看。

金屬有機化學氣相沉積系統(tǒng)（MOCVD)是利用金屬有機化合物作為源物質(zhì)的一種化學氣相淀積（CVD)工藝，其原理為利用有機金屬化學氣相沉積法metal-organic chemical vapor deposition.MOCVD是一種利用氣相反應物，或是前驅(qū)物precursor和Ⅲ族的有機金屬和V族的NH3，在基材substrate表面進行反應，傳到基材襯底表面固態(tài)沉積物的工藝。

MOCVD主要功能在于沉積高介電常數(shù)薄膜，可隨著precursor的更換，而沉積出不同種類的薄膜。對于LED來說，LED芯片由不同半導體材料的多層次架構(gòu)構(gòu)成，這些材料放在一個裝入金屬有機化學氣相沉積系統(tǒng)的圓形芯片上。這個過程叫做晶體取向附生，對于決定LED的性能特徵并因此影響白光LED的裝倉至關(guān)重要。

MOCVD應用的范圍有：
1、 鈣鈦礦氧化物如PZT、SBT、CeMnO2等；
2、 鐵電薄膜；
3、 ZnO透明導電薄膜、用于藍光LED的n-ZnO和p-ZnO、用于TFT的ZnO、ZnO納米線；
4、 表面聲波器件SAW(如LiNbO3等、；
5、 三五族化合物如GaN、GaAs基發(fā)光二極體（LED）、雷射器（LD）和探測器；
6、 MEMS薄膜；
7、 太陽能電池薄膜；
8、 銻化物薄膜；
9、 YBCO 高溫超導帶；
10、 用于探測器的SiC、Si3N4等寬頻隙光電器件

MOCVD對鍍膜成分、晶相等品質(zhì)容易控制，可在形狀復雜的基材、襯底、上形成均勻鍍膜，結(jié)構(gòu)密緻，附著力良好之優(yōu)點，因此MOCVD已經(jīng)成為工業(yè)界主要的鍍膜技術(shù)。MOCVD制程依用途不同，制程設備也有相異的構(gòu)造和型態(tài)。MOCVD近來也有觸媒制備及改質(zhì)和其他方面的應用，如制造超細晶體和控制觸媒得有效深度等。在可預見的未來里，MOCVD工藝的應用與前景是十分光明的。