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SSLCHINA 2015最新播報之吳潔君:21片HVPE系統(tǒng)及GaN單晶襯底研究進展

隨著“互聯網+”被寫入政府工作報告,一個智慧和共享的信息時代正在到來,而“互聯網+”也正成為一種新的經濟形態(tài),發(fā)揮著互聯網在生產要素分配中的優(yōu)化和繼承作用,有效提升實體經濟的創(chuàng)新力和生產力。
 
2015年11月2-4日,第十二屆中國國際半導體照明論壇(SSLCHINA 2015)將在深圳會展中心舉辦,論壇緊扣時代發(fā)展脈搏與產業(yè)發(fā)展趨勢,以“互聯時代的LED+”為大會主題,探討產業(yè)發(fā)展新趨勢,解讀產業(yè)新政策,推薦產業(yè)新技術、新應用,引導和解決產業(yè)發(fā)展共性問題。
 
中國國際半導體照明論壇(SSLCHINA)作為中國地區(qū)最具國際影響力的半導體照明及智能照明行業(yè)年度盛會,已經成功連續(xù)舉辦十一屆,早已是業(yè)界最為關注的論壇之一。本屆大會特邀科技部副部長、國家制造強國建設領導小組副組長曹健林擔任中方主席,外方主席為國際照明委員會主席、美國國家標準與技術研究所傳感器科學部首席研究員Yoshi Ohno,組委會秘書長為國家半導體照明工程研發(fā)及產業(yè)聯盟秘書長吳玲。目前開閉幕大會、技術分會等特邀嘉賓正在全球征集中。
 
據組委會最新消息,北京大學物理學院高級工程師、工學博士,東莞市中鎵半導體科技有限公司技術總監(jiān)吳潔君女士將出席本次論壇,并在P201“材料與裝備技術分會”上分享最新研究成果。
 
吳潔君博士,2003年4月進入中科院半導體所學習并獲博士學位,2006年4月在北京大學物理學院寬禁帶中心從事博士后研究,2007年12月獲得日本學術振興協會(JSPS)資助任日本三重大學任外國人特別研究員,2009年12月回國加入北京大學物理學院。
 
據了解,2003年4月起,吳潔君就開始從事氮化物半導體材料、器件的研究、MOCVD及HVPE生長技術研究及國產設備開發(fā),主持并參與了國家863 課題、國家973項目和國家自然科學基金等多項國家重大課題研究,在2-4英寸GaN單晶襯底研制及量產化技術;HVPE生長GaN厚膜和AlN厚膜的工藝特性與生長機制;非極性面氮化物HVPE生長;硅基MOCVD生長無裂紋GaN基器件等方面均開展了深入的研究,發(fā)表相關的SCI論文數十篇,獲得授權和申請的國家發(fā)明專利數十項。此前,她還曾獲國防科工委的國防科學技術二等獎(2001GF2069-5,排名5),航空工業(yè)總公司的航空科學技術獎一等獎(20011137,排名5)和三等獎(20001061,排名1)。
 
眾所周知,近幾年來,自支撐GaN襯底由于其低位錯密度及高導熱性已得到廣泛應用。HVPE方法是最適用于生長GaN厚膜的方法之一,它與自分離技術相結合已經能夠成功制備出自支撐GaN襯底,但若要進一步提高GaN襯底的生產效率,就必須如同多片MOCVD機生產LED管芯一樣,發(fā)展多片HVPE系統(tǒng)。然而,由于受制于膜厚均勻性等關鍵問題目前還無法解決,因而導致多片HVPE系統(tǒng)至今仍處于初始階段。
 
對此,吳潔君博士表示,通過建立大型加熱爐熱場穩(wěn)態(tài)及非穩(wěn)態(tài)模型,并采用增加絕熱反射層的方式控制熱散失,可以實現可控的大面積均勻溫場,從而開發(fā)研制出大反應室21片HVPE系統(tǒng)。
 
據吳潔君介紹,目前,大反應室21片HVPE系統(tǒng)可以實現同時生長21片10-50um復合襯底,片內均勻性約10%,片間均勻性小于5%。同時,開發(fā)出低缺陷密度、無裂紋GaN厚膜的HVPE生長技術、可控的2英寸GaN厚膜與異質襯底的完整分離技術和流量調制多片均勻性HVPE生長技術。而且在HVPE生長中,采用漸變調節(jié)并周期調制的方法,可以既控制GaN厚膜開裂,又控制缺陷密度,達到制備高質量的GaN厚膜襯底材料的目的。
 
利用此方法能夠成功獲得無裂紋厚度達到370微米的GaN厚膜,其位錯密度降到5×107 cm-2。“針對2英寸GaN厚膜難于和異質襯底分離的問題,我們提出在生長界面、襯底和生長過程等多環(huán)節(jié)應變控制的自分離技術。同時,在理論模型的指導下,控制薄膜厚度的均勻分布及膜厚達到臨界厚度以上,實現GaN自分離過程可控。獲得的2英寸自支撐GaN單晶襯底,表面光滑無裂紋,晶體質量高,厚度偏差<±5%,位錯密度達到2-5×106 cm-2。在同質襯底上同質外延高光效白光LED。”吳潔君表示。
 
2015年11月,吳潔君博士將帶著“大反應室21片HVPE系統(tǒng)”的最新研究成果出席第十二屆中國國際半導體照明論壇(SSL CHINA 2015)的“材料與裝備技術分會”。屆時,與會嘉賓不僅能聽到“大反應室21片HVPE系統(tǒng)”的詳細介紹,還能獲得GaN單晶基最新研究進展,以及對半導體照明產業(yè)技術發(fā)展趨勢的深入探討。
 
SSLCHINA之所以具有高度的國內外影響力和美譽度,不僅在于論壇高水平、高規(guī)格,更得益于論壇匯聚了全球半導體照明產業(yè)頂級專家的智慧與成就,而本屆SSLCHINA即將您呈上一場更具規(guī)格半導體照明產業(yè)的饕餮盛宴。

 


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