日前,Light:Science & Applications在線刊發(fā)了華中科技大學(xué)唐江教授領(lǐng)銜的單片集成光電子器件與系統(tǒng)團(tuán)隊(duì)(MODS)題為《Fluorine-modified passivator for efficient vacuum-deposited pure-red perovskite light-emitting diodes》的研究論文。論文第一作者為劉念博士生,通訊作者為杜鵑教授、劉征征副教授和羅家俊教授。論文第一單位為華中科技大學(xué)。
近年來,鈣鈦礦發(fā)光二極管(PeLED)在外部量子效率(EQE)和亮度方面取得了重大進(jìn)展,但最先進(jìn)的PeLED主要通過溶液處理旋涂制造,這通常僅適用于實(shí)驗(yàn)室小規(guī)模的探索,難以實(shí)現(xiàn)商業(yè)化。真空蒸鍍作為商用有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器的主流制備技術(shù)已經(jīng)十分成熟,并在未來PeLED的商業(yè)化上展現(xiàn)出極大的潛力。
與傳統(tǒng)的OLED制造不同,PeLED的真空蒸鍍制備流程通常涉及復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)、成核過程以及晶體生長(zhǎng)。過去的部分研究揭示了蒸鍍前驅(qū)體之一的PbX2分子通常會(huì)在蒸鍍過程中發(fā)生分解,從而不理想的鹵素空位缺陷。這直接導(dǎo)致了導(dǎo)致蒸鍍鈣鈦礦薄膜顯著提高的缺陷密度以及增加的缺陷輔助復(fù)合速率,與溶液處理的鈣鈦礦相比。
而在紅光體系當(dāng)中,由于碘化鉛相比溴化鉛具有更低的鍵解離能,更容易分解。因此,真空蒸鍍的紅色鈣鈦礦薄膜通常具有比綠色鈣鈦礦薄膜低得多的PLQY。這是迄今為止真空蒸鍍紅色PeLED的主要技術(shù)瓶頸,并導(dǎo)致其器件的最高效率僅僅只有不到2%(1.96%)。
在該工作中,唐江教授團(tuán)隊(duì)在TPPO苯環(huán)上引入吸電子基團(tuán)氟原子來調(diào)節(jié)分子性質(zhì)。含有π共軛苯環(huán)的膦氧配體具有電子轉(zhuǎn)移的潛力、蒸鍍可控和缺陷鈍化的特點(diǎn),通常是蒸鍍鈣鈦礦中的良好候選配體。由于不同強(qiáng)度的誘導(dǎo)效應(yīng)和共軛效應(yīng),在苯環(huán)的不同位置引入氟原子,可以發(fā)現(xiàn)2-F-TPPO表現(xiàn)出更強(qiáng)的分子極性和更低的靜電勢(shì)。這意味著使用2-F-TPPO可以更加高效的鈍化缺陷,并將獲得光學(xué)性能顯著增強(qiáng)的鈣鈦礦薄膜。
同時(shí),由于配體能夠與鈣鈦礦中的位點(diǎn)結(jié)合,2-F-TPPO的引入還減緩了真空蒸鍍的結(jié)晶過程,并將鈣鈦礦的平均晶粒尺寸從65 nm減小到45 nm。使用優(yōu)化后的鈣鈦礦薄膜作為有源層,成功制造了迄今為止最高效的真空蒸鍍正紅色PeLED,實(shí)現(xiàn)了創(chuàng)紀(jì)錄的12.6%的EQE,是之前報(bào)道的6倍。
此外,唐江教授團(tuán)隊(duì)通過制造高達(dá)90 cm2的大面積鈣鈦礦薄膜展示了該方法的可擴(kuò)展性。這些薄膜在光致發(fā)光、晶粒質(zhì)量和元素分布方面表現(xiàn)出優(yōu)異的均勻性,展示了真空蒸鍍法的優(yōu)越性能。唐江教授團(tuán)隊(duì)的研究為通過配體分子結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)提高真空蒸鍍PeLED的性能提供了寶貴的見解,為全彩化PeLED的商業(yè)化鋪平了道路。
圖1. 真空蒸鍍鈣鈦礦薄膜流程示意圖及優(yōu)化示意圖。(a) 三源真空沉積示意圖。 (b) TPPO 和 2-F-TPPO 的分子偶極矩。 (c) 鈣鈦礦與 2-F-TPPO 的相互作用機(jī)理示意圖。2-F-TPPO 可作為缺陷鈍化劑并調(diào)節(jié)結(jié)晶過程,加入 2-F-TPPO 的鈣鈦礦薄膜顯示出更強(qiáng)的 PL 發(fā)射和結(jié)晶度。 (d) 添加膦氧化物前后薄膜的紫外可見吸收。(e) PL 和 f 時(shí)間分辨光致發(fā)光 (TRPL) 光譜。
圖2. 2-F-TPPO添加劑鈍化鈣鈦礦薄膜缺陷的表征及其結(jié)果。(a,b)原始薄膜(a)和摻入 2-F-TPPO 的鈣鈦礦薄膜(b)的瞬態(tài)吸收光譜,顯示吸光度(A)隨時(shí)間的變化。(c, d )原始和加入 2-F-TPPO 的鈣鈦礦物薄膜中 Pb 4 f (c) 和 Br 3 d (d) 信號(hào)的 XPS 圖譜分析。
圖3. 2-F-TPPO添加劑調(diào)節(jié)結(jié)晶過程優(yōu)化晶粒分布的結(jié)果。(a, b) 原始薄膜(a)和摻入 2-F-TPPO 的鈣鈦礦薄膜(b)的掃描電子顯微鏡圖像(插圖中顯示晶粒尺寸分布)。( c, d) 原始薄膜(c)和摻入 2-F-TPPO 的鈣鈦礦薄膜(d)的隨溫度變化的 PL 光譜。
圖4.真空蒸鍍PeLED和大面積鈣鈦礦薄膜的性能。(a) PeLED 的能級(jí)。(b) PeLED 的電流密度(J)和亮度(L)與電壓(V)的關(guān)系曲線。 (c) PeLED 的 EQE 與電流密度的關(guān)系曲線。 (d) 加入了 2-F-TPPO 的 PeLED 的電致發(fā)光光譜。(e) 已報(bào)道的真空沉積紅光 PeLED 的 EQE 值總結(jié)。(f) 將 2-F-TPPO 結(jié)合 PeLED 的 EL 的 CIE 坐標(biāo)與 NTSC 和 Rec. 2020 標(biāo)準(zhǔn)的比較。(g)通過真空沉積制備的 90 cm2 鈣鈦礦薄膜的 PL 圖像。(h,i) 大面積鈣鈦礦薄膜的 PL 發(fā)射波長(zhǎng)分布 (h) 和 FWHM 分布 (i),每個(gè)測(cè)試點(diǎn)相距 >0.8 cm。(來源:華中科技大學(xué))
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